等離子體化學氣相沉積法（PCVD） 高純SiCl4經(jīng)汽化后在無氫的等離子焰中高溫氧化、熔制成超高純合成石英玻璃。其金屬雜質(zhì)含量和羥基含量低（小于1ppm），可實現(xiàn)寬光譜高透過（190-3200nm）。

     間接合成法 高純SiCl4原料經(jīng)汽化后在~1000℃的氫氧火焰中反應并沉積形成SiO2疏松體，經(jīng)脫羥和玻璃化燒結(jié)制備的高純低羥基石英玻璃。其金屬雜質(zhì)含量和羥基含量低（小于1ppm），可實現(xiàn)寬光譜高透過（190-3200nm）。 石英玻璃堪稱玻璃材料的“皇冠”，它是多個戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)的“咽喉”材料，對于相關產(chǎn)業(yè)鏈供應鏈安全穩(wěn)定具有重要意義。