半導體硅片、晶圓、晶片超聲波清洗機 產(chǎn)品描述： 1.該型清洗機采用環(huán)保水基清洗工藝； 2.該設備設計合理,充分考慮了環(huán)保和節(jié)能的要求； 3.采用半封閉式結構，運行部件設計充分考慮防止污染； 4.清洗機框架和烘干爐內(nèi)均采用正壓送風形式, 保持運行時的風始終外溢；同時, 清洗區(qū)域與維護區(qū)域隔離開，確保潤滑油脂及運動磨損不會對清洗的產(chǎn)品產(chǎn)生二次污染； 5.通過以上措施能有效保證工作室長期處于潔凈狀態(tài),從而保證產(chǎn)品的潔凈要求； 6.每工位槽體為單獨設置，方便更換、維修維護。 應用范圍：本清洗機非常適合于半導體硅片、晶片、晶圓、鏡片等清洗和干燥，適合千級以上的環(huán)境下使用。   斯科達SKD-12168WTM半導體晶片硅片超聲波清洗機,玻璃晶片清洗機、晶圓清洗機、晶片清洗設備、半導體硅片清洗機、硅片超聲波清洗機